TED 741369-2026 Elektronenstrahl-Lithographiesystem

Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltkreisen bis hin zu supraleitenden Quantenschaltkreisen mit Strukturgrößen unter 100nm und einer erforderlichen Genauigkeit im nm-Bereich.

Publikationsnummer: 741369-2026 Veröffentlicht: 2026-10-27 Auftraggeber: Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften, Garching

Daten und Ressourcen

Zusätzliche Informationen

Feld Wert
Zuletzt aktualisiert Oktober 29, 2026, 13:01 (UTC)
Erstellt Oktober 29, 2026, 13:01 (UTC)
buyer_city Garching
buyer_country DEU
buyer_name Walther-Meissner-Institut der Bayerischen Akademie der Wissenschaften
contract_type goods
cpv_codes 38000000
cpv_main 38000000
document_type can-standard
language DEU
notice_title Elektronenstrahl-Lithographiesystem
notice_version 1
nuts DEA22
nuts_buyer DE21H
nuts_performance DE21H
nuts_performance_main DE21H
nuts_performance_nuts1 DE2
nuts_performance_nuts2 DE21
procedure_id 503c00b7-8757-4dc9-b4e1-d88d0c11cd73
procedure_type open
publication_date 2026-10-27
publication_number 741369-2026