TED 618476-2026 Chemisch-mechanische Poliermaschine

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können.

Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2

Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

Publikationsnummer: 618476-2026 Veröffentlicht: 2026-09-08 Auftraggeber: Friedrich-Schiller-Universität Jena, Jena Angebotsfrist: 2026-10-13+02:00 10:00:00+02:00 Änderungsbekanntmachung: 718171-2026 vom 2026-10-16 Zuschlagsbekanntmachung: 752830-2026 vom 2026-10-30

Daten und Ressourcen

Zusätzliche Informationen

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Zuletzt aktualisiert November 2, 2026, 03:51 (UTC)
Erstellt September 14, 2026, 07:12 (UTC)
award_status vergeben
awarded_to Bruker France S.A.S.
buyer_city Jena
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