219500RES-0000selec-wTEN-0000t-esubm1CON-0000LOT-0000TEN-0000219500noTPA-0000LOT-000012030136 vom 02.07.2026CON-00002026-07-16+02:004501038989 / E_2690_PR1236651TEN-0000IMDOptE: Innovative Infrastructure for Microstructure Diagnostics in Optics and ElectronicsERDF_2021TPA-0000ORG-000229ORG-0000Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | IMWS vertreten durch: Fraunhofer-Institut für Mikrostruktur von Werkstoffen und Systemen IMWSWalter-Hülse-Straße 1Halle (Saale)06120DEE02DEU993-03005FHG-85000einkauf@imws.fraunhofer.deORG-0001Vergabekammern des BundesKaiser-Friedrich-Straße 16Bonn53113DEA22DEUt:022894990vk@bundeskartellamt.bund.delargeORG-0002KEYENCE DEUTSCHLAND GmbHDe-Saint-Exupéry-Str. 3Frankfurt am Main60549DE712DEUDE147818062ORG-0003Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Bonn53119DEA22DEU0204:994-DOEVD-83+49228996100noreply.esender_hub@bescha.bund.de00495974-2026136/20262026-07-17+02:002.3eforms-sdk-1.13eforms-sdk-1.13bf8354ea-dea5-4e82-b8ad-ce3b6a2268156175ff72-14e0-430f-b01b-ed7a9b0dc1562026-07-16+02:0012:31:17+02:00012026-07-16+02:0032014L0024can-standardDEUpub-undertgen-pubORG-0000ted-esenORG-0003vgvopenfalseE_2690_PR1236651Digitalmikroskopie- und AnalyseplattformDas Fraunhofer Institut für Mikrostruktur von Materialien und Systemen benötigt für die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an elektronischen Bauteilen und optischen Gläsern ein modulares Digitalmikroskopsystem mit einer Element-Analyseeinheit, das wie folgt ausgelegt werden soll (siehe auch vorliegende Systembeschreibung): Beschafft werden soll ein modular aufgebautes, zusammenhängendes Digitalmikroskopie- und Analysesystem, bestehend aus drei Arbeitsplätzen, für den Einsatz in einer öffentlich geförderten Forschungseinrichtung. Das Gesamtsystem besteht aus zwei eigenständig nutzbaren Basissystemen sowie einem dritten, umsteckbaren Arbeitsplatz und ist so auszulegen, dass ein durchgängiger Workflow von der makroskopischen Übersicht über die hochauflösende Detailanalyse bis hin zur digitalen Messung, Dokumentation und quantitativen Materialanalyse (prozentuale Ausgabe) ermöglicht wird. Das System muss einen sehr breiten Anwendungsbereich abdecken. Es soll von großflächigen Übersichtsaufnahmen bis zur hochauflösenden Mikroanalyse sowie für unterschiedliche Materialien, Oberflächen, Probengrößen und Geometrien geeignet sein. Hierzu sind verschiedene Makro-, Übersichts- und Hochvergrößerungsoptiken sowie mehrere Stativ- und Tischkonfigurationen bereitzustellen. Unterschiedliche Beleuchtungs- und Betrachtungsmodi (z B. Hell- /Dunkelfeld, Polarisations- und Schrägbeleuchtung sowie DIC) müssen integriert und softwareseitig steuerbar sein.supplies38510000Heideallee 19Labor 1. OGHalle (Saale)06120DEE02DEULOT-0000falseeu-fundspoi-exa60pricePreispoi-exa30qualityLieferzeitpoi-exa10qualityNachhaltigkeitInformationen über die Überprüfungsfristen: Vergabekammern des Bundes Informationen über die Überprüfungsfristen: § 160 GWB Einleitung, Antrag(1) Die Vergabekammer leitet ein Nachprüfungsverfahren nur auf Antrag ein. (2) Antragsbefugt ist jedes Unternehmen, das ein Interesse an dem öffentlichenAuftrag oder der Konzession hat und eine Verletzung in seinenRechten nach § 97 Absatz 6 GWB durch Nichtbeachtung von Vergabevorschriften geltend macht. Dabei ist darzulegen, dass dem Unternehmen durch die behauptete Verletzung der Vergabevorschriften ein Schaden entstanden ist oder zu entstehen droht. (3) Der Antrag ist unzulässig, soweit 1. der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von zehn Kalendertagen gerügt hat; derAblauf der Frist nach § 134 Absatz 2 GWB bleibt unberührt,2. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist (etwaige Vergabeverstöße muss der Bewerber/Bieter gemäß § 160 Abs. 3 Nr. 1 GWB innerhalb von 10 Tagen nach Kenntnisnahme rügen) zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, 3. Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist (etwaige Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, sind nach § 160 Abs. 3 Nr. 3 GWB spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbungsoder Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber zu rügen) zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, 4. mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1 Nummer 2 GWB. § 134 Absatz 1 Satz 2 GWB bleibt unberührt. § 134 GWB Informations- und Wartepflicht https://www.gesetze-im-internet.de/gwb/__134.html § 135 Unwirksamkeit https://www.gesetze-im-internet.de/gwb/__135.htmlORG-0001truefalsebuyer-categoriesnonenoneE_2690_PR1236651Digitalmikroskopie- und AnalyseplattformDas Fraunhofer Institut für Mikrostruktur von Materialien und Systemen benötigt für die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an elektronischen Bauteilen und optischen Gläsern ein modulares Digitalmikroskopsystem mit einer Element-Analyseeinheit, das wie folgt ausgelegt werden soll (siehe auch vorliegende Systembeschreibung): Beschafft werden soll ein modular aufgebautes, zusammenhängendes Digitalmikroskopie- und Analysesystem, bestehend aus drei Arbeitsplätzen, für den Einsatz in einer öffentlich geförderten Forschungseinrichtung. Das Gesamtsystem besteht aus zwei eigenständig nutzbaren Basissystemen sowie einem dritten, umsteckbaren Arbeitsplatz und ist so auszulegen, dass ein durchgängiger Workflow von der makroskopischen Übersicht über die hochauflösende Detailanalyse bis hin zur digitalen Messung, Dokumentation und quantitativen Materialanalyse (prozentuale Ausgabe) ermöglicht wird. Das System muss einen sehr breiten Anwendungsbereich abdecken. Es soll von großflächigen Übersichtsaufnahmen bis zur hochauflösenden Mikroanalyse sowie für unterschiedliche Materialien, Oberflächen, Probengrößen und Geometrien geeignet sein. Hierzu sind verschiedene Makro-, Übersichts- und Hochvergrößerungsoptiken sowie mehrere Stativ- und Tischkonfigurationen bereitzustellen. Unterschiedliche Beleuchtungs- und Betrachtungsmodi ( B. Hell- /Dunkelfeld, Polarisations- und Schrägbeleuchtung sowie DIC) müssen integriert und softwareseitig steuerbar sein.suppliesnone38510000Heideallee 19Labor 1. OGHalle (Saale)06120DEE02DEUUNLIMITED2000-01-01+01:00