216125RES-0000selec-wTEN-0000t-esubm2CON-0000LOT-0001TEN-0000true216125noTPA-0000LOT-00011CON-00002026-06-30+02:001TEN-0000TPA-0000DE311760327ORG-000329ORG-0001Friedrich-Schiller-Universität JenaJena07743DEG03DEUDE150546536000vergabestelle@uni-jena.deORG-0002Thüringer Landesverwaltungsamt - VergabekammerWeimar99423DEG05DEU111110361 57332 1254vergabekammer@tlvwa.thueringen.demediumORG-0003Notion Systems GmbHSchwetzingen68723DE128DEUDE311760327ORG-0004Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Bonn53119DEA22DEU0204:994-DOEVD-83+49228996100noreply.esender_hub@bescha.bund.de00455462-2026125/20262026-07-02+02:002.3eforms-sdk-1.13eforms-sdk-1.138e39aa13-68f0-4a3d-9072-f8373c0983ab308081f0-14d6-4e63-950d-bf5467850b372026-07-01+02:0014:26:18+02:00012026-07-01+02:0032014L0024can-standardDEUbody-pl-raeducationORG-0001ted-esenORG-0004vgvopenfalseEU-OV/2026-28Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für ElektronenstrahllithografieEs soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.supplies38000000DEG03DEULOT-0001falseeu-fundsDer Zuschlag wird nach § 58 VgV auf das unter Berücksichtigung aller Umstände wirtschaftlichste Angebot erteilt. Zur Ermittlung des wirtschaftlichsten Angebotes werden ausschließlich die nachfolgenden Kriterien angesetzt: 1) Gesamtangebotspreis (netto; ohne Berücksichtigung von bedingten Rabatten, wie z. B. Skonto; soweit der Auftraggeber im Rahmen der Lieferung Einfuhrabgaben (Zollgebühren) zu entrichten hat, werden diese Kosten bei der Wertung berücksichtigt). * */ max. 40 % (bis zu 40 Wertungspunkte) * Hierbei gilt, dass der beste (günstigste) Preis die maximale Prozentzahl erhält. Das 2-fache des besten Preises entspricht 0%. Alle weiteren Angebote werden entsprechend Ihrer Abweichungen linear interpoliert. Der geringste erreichbare Wert ist 0%. 2) Gewünschte technische Ausführung mit zusätzlicher Wertung, max. 60 %, entspricht bis zu 60 Wertungspunkten - siehe Vergabeunterlagen.price1Informationspflicht, Rügen und Nachprüfungen Die Vergabestelle informiert den/die Bieter, dessen/deren Angebote nicht berücksichtigt werden sollen, in der von ihr in der Bekanntmachung oder den Vergabeunterlagen bestimmten Form. Spätestens zehn Kalendertage vor dem beabsichtigten Vertragsabschluss informiert die Vergabestelle den/die unterlegenen Bieter über den Namen des Bieters, dessen Angebot angenommen werden soll, über die Gründe der vorgesehenen Nichtberücksichtigung ihres Angebotes und den frühestmöglichen Zeitpunkt der Zuschlagserteilung. Die Vergabestelle bestimmt eine mindestens zehn Tage betragende Frist, in der eine mögliche Beanstandung / Rüge vorzubringen ist. Die Beanstandungen / Rügen sind schriftlich zu übermitteln an: Friedrich-Schiller-Universität Jena Abteilung Einkauf 07743 Jena Zulässig sind Beanstandungen und Rügen ausschließlich per E-Mail an: vergabestelle@uni-jena.de Beanstandungen und Rügen sind dabei klar als diese zu benennen und zu kennzeichnen. Rügen Rügen der Bieter, in welchen diese einen Verstoß gegen die Vorschriften im Vergabeverfahren vortragen, sind ausnahmslos (per E-Mail) an die Vergabestelle zu richten. Hilft die Vergabestelle der Rüge nicht ab, wird mit Eingang des entsprechenden Antwortschreibens der Vergabestelle, eine Frist von 15 Kalendertagen in Gang gesetzt (§ 160 Abs. 3 Nr. 4 GWB), innerhalb derer der Bieter einen etwaigen Nachprüfungsantrag bei der Vergabekammer einreichen kann. Stelle für Nachprüfungsverfahren Zur Nachprüfung behaupteter Verstöße gegen Vergabebestimmungen kann sich der Bieter an nachfolgende Vergabekammer wenden: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt Jorge-Semprún-Platz 4 99423 Weimar Vorsorglich möchten wir auf die Kostenfolge nach § 14 Abs. 5 ThürVgG für Nachprüfungsverfahren hinweisen.ORG-0002truefalsebuyer-categoriesnonenoneEU-OV/2026-28Hotplate zur Temperung großflächiger Substrate für ElektronenstrahllithografieEs soll eine halbautomatische Hotplate zur Temperung von mit Resists beschichteten Substraten für hochauflösende Elektronenstrahllithografie beschafft werden. Die Anlage dient zur definierten Pre- und Post-bake chemisch verstärkter Resists, wie bspw. FEP171, bei denen die Empfindlichkeit wesentlich durch das Temperatur Zeit Profil und die Temperatur-Homo genität bestimmt wird. Zu prozessierende Substrate umfassen u.a. 300mm-Wafer, sowie rechteckiger Glas-Substrate bis zu L x B x H = 300mm × 275mm × 15mm. Aus diesen technischen Randbedingungen ergeben sich die folgenden Anforderungen:, siehe Anlage 2.suppliesnone38000000DEG03DEU2000-01-01+01:00