not-val oth-int -1 RES-0001 selec-w TEN-0001 tenders 1 t-esubm 1 t-sme 1 t-oth-eea 1 t-no-eea 0 CON-0001 LOT-0000 win-ten-val oth-int TEN-0001 -1 no TPA-0001 LOT-0000 TEN-0001 CON-0001 2025-11-10+01:00 CON-0001 TEN-0001 TPA-0001 ORG-0001 29 false false https://vergabe.fraunhofer.de/ ORG-7001 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE 129515865 Einkauf Betrieb und Infrastruktur +49891205-0 einkauf@zv.fraunhofer.de ORG-7004 Vergabekammern des Bundes Vergabekammern des Bundes Kaiser-Friedrich-Straße 16 Bonn 53113 DEA22 DEU t:022894990 +49 228 9499-0 vk@bundeskartellamt.bund.de https://www.fraunhofer.de ORG-7005 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE-129515865 +49 89 1205-0 einkauf@zv.fraunhofer.de false UBO-0001 medium ORG-0001 Polyteknik AS Polyteknik AS Moellegade 21 Oetervraa 9750 DK050 DNK DK26672031 ORG-7006Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Bonn53119DEA22DEU0204:994-DOEVD-83+49228996100noreply.esender_hub@bescha.bund.de UBO-0001 00451047-2026124/20262026-07-01+02:00 2.3 eforms-sdk-1.13 eforms-sdk-1.13 f788ffd8-1124-434c-9646-69a45b578e2d ef0584c3-d9c5-43da-b622-e04f49ba1d0e 2026-06-30+02:00 09:13:23+02:00 01 2026-06-30+02:00 32014L0024 can-standard DEU ENG https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ pub-undert gen-pub ORG-7001 ted-esenORG-7006 vgv neg-wo-call false technical Kein Wettbewerb aus technischen Gründen No competition due to technical reasons PR917294-2480-P Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) - PR917294-2480-P Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) - PR917294-2480-P Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) supplies 42990000 Dresden 01109 DED21 DEU LOT-0000 false false eu-funds per-exa 100.00 price Preis Price Preis Price ORG-7001 ORG-7005 ORG-7004 true false none none LOT-0000 Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) - PR917294-2480-P Remote Plasma PVD Chamber (IPMS-CNT04.2) - PR917294-2480-P 1 Stück Remote Plasma PVD Chamber Eine Prozesskammer als Ausrüstungserweiterung zur Abscheidung metallischer und nichtmetallischer Dünnschichten mittels PVD-Verfahren (Sputtering) auf Wafern mit einem Durchmesser von 300 mm. Die Sputterkammer als Upgrade des bestehenden Polyteknik Flextura 300 Depositionsclusters muss mit dem bestehenden Mainframe "Flextura 300" und den bereits vorhandenen Kammern "Confocal Sputter Module", "Degas Module", "Cooling Module" und "MBE Module" kompatibel sein. Optionale Leistungspositionen: 3.1.11 Plasma-Fernkammer - allgemein Plasma-Emissions-Monitoring (PEM) mit Rückkopplungssteuerung bitte Typ und Genauigkeit angeben 3.1.12 Plasma-Fernkammer - allgemein Restgasanalysator (RGA) Massenspektrometer Lieferoption 3.1.18 Plasma-Fernkammer - allgemein Quarzkristall-Mikrowaage zur Bestimmung der Depositionsrate, abnehmbar/abdeckbar ohne Kammeröffnung (z. B. Shutter oder versenkbar) Lieferoption; bitte Anzahl der QCMs, Art des Abdeckmechanismus (z. B. Shutter oder einziehbar); bitte Anzahl der QCMs und Art des Abdeckmechanismus angeben 3.2.3 Remote-Plasmakammer - Gasleitungen zusätzlicher Gaseinlass für vorgemischte Flaschen mit Standardflansch Lieferoption 3.4.6 Remote-Plasmakammer - Targets vorinstallierte Targetmaterialien und Reinheit: Zr (4N), Nb (4N) bitte als Lieferoption angeben 3.4.7 Remote Plasmakammer - Targets zusätzliche vorinstallierte Targetmaterialien und Reinheiten: Cu (5N), SiN (3N) bitte als Lieferoption angeben 5.7 Gewährleistungsverlängerung Verlängerung der Grundgewährleistungszeit um ein weiteres Jahr bitte als Option angeben 1 piece Remote Plasma PVD Chamber A process chamber as equipment upgrade to deposit metallic and non-metallic thin films via PVD (sputtering) process on wafers with a diameter of 300 mm. The sputter chamber as an upgrade of the existing Polyteknik Flextura 300 deposition cluster must be compatible to the existing mainframe "Flextura 300" and the already existing chambers "Confocal Sputter Module", "Degas Module", "Cooling Module", and "MBE Module". Optional service items: 3.1.11 Remote Plasma chamber - general plasma emission monitoring (PEM) with feedback control please specify type and accuracy 3.1.12 Remote Plasma chamber - general Residual gas analyzer (RGA) mass spectrometer delivery option 3.1.18 Remote Plasma chamber - general Quartz Crystal Microbalance for deposition rate determination, removable/coverable without chamber opening (e.g. shutter or retractable) delivery option; please specify number of QCMs, type of removal/cover mechanism 3.2.3 Remote Plasma chamber - gas lines additional gas inlet for pre-mixed bottles with standard flange delivery option 3.4.6 Remote Plasma chamber - targets preinstalled target materials and purity: Zr (4N), Nb (4N) please quote as delivery option 3.4.7 Remote Plasma chamber - targets additional preinstalled target materials and purity: Cu (5N), SiN (3N) please quote as delivery option 5.7 Extended Warranty Extension of the basic warranty period for one further year Please quote as an option supplies none 42990000 Dresden 01109 DED21 DEU 2000-01-01+01:00